Vernissage  /  27.10.2016

ART & TECHNOLOGY 2016: »Orte der Inspiration«

Für die »Orte der Inspiration« wurden alle Mitarbeitenden des Fraunhofer IIS eingeladen, Orte/Plätze/Räume zu fotografieren, die sie zu Ideen für ihre Arbeit anregen. Durch digitale Mehrfachspiegelungen hat die Kommunikationsdesignerin Christina Oppitz die Raumatmosphären als kaleidoskopische Muster dargestellt. Die in diesem Prozess entstandenen Musterwelten nennt Oppitz »Impression Pattern«. Sie interpretieren Orte als imaginative Welten.
 

Art & Technology am Fraunhofer IIS

»Orte der Inspiration« ist ein Projekt in der Ausstellungsreihe Art & Technology, die Kunst und Technologie in Wechselwirkung stellt.